[设备]粉体ALD系统

	中文名称：	粉体ALD系统
	英文名称：	ALD Powder System
	仪器编号：
	仪器型号：	VF-ALD
	生产厂家：	自搭
	放置位置：	柔性电子制造实验室

  功能介绍    

粉体ALD系统主要是利用原子层沉积技术进行纳米颗粒包覆的设备，该方法相比传统的CVD方法，拥有沉积薄膜均匀，覆盖性好的特点。

技术特点：可以实现纳米级薄膜的沉积，只需要控制反应的周期数即可得到理想的薄膜厚度。

1.可对不同的生长基底进行薄膜包覆，实现不同的包覆层（除Al2O3薄膜外，其余薄膜包覆需要自备前驱体）。

2.一次可以包覆0-5g的样品重量，且包覆薄膜致密均匀。

3.温度控制系统可以实现窗口温度在20-300℃内的ＡＬＤ反应。

  主要技术参数 

·沉积薄膜：Al2O3薄膜

·最小膜厚：1nm

·温度范围：50-300℃

·真空压力：1pa

·前驱体：5路

·软件： 自主设计软可以保存温度、压力。

  应用范围 

可以应用到物理、化学、材料学、微电子技术、薄膜技术、冶金学、天文学、生物和医学等方面。